RO反滲透設備一般為純水設備系統(tǒng)，在使用過程中，由于設備的設計、維護以及運行、操作等一系列問題，經(jīng)常會產(chǎn)生RO膜堵塞的現(xiàn)象，那么具體是什么物質(zhì)造成了RO膜的堵塞呢？針對不同的堵塞物質(zhì)，我們又該如何處理呢？下面由源萊水處理為您一一解答。

　　碳酸鈣垢：

　　碳酸鈣垢是一種礦物結(jié)垢。當阻垢劑/分散劑添加系統(tǒng)出現(xiàn)故障時，或是加酸pH調(diào)節(jié)系統(tǒng)出故障而引起給水pH增高時，碳酸鈣垢有可能沉積出來。盡早地檢測碳酸鈣垢，對于防止膜層表面沉積的晶體損傷膜元件是極為必要的。早期檢測出的碳酸鈣垢可由降低給水的pH值3~5，運行1~2小時的方法去除。對于沉積時間長的碳酸鈣垢，可用低pH值的檸檬酸溶液清洗去除。

　　硫酸鈣、硫酸鋇、硫酸鍶垢：

　　硫酸鹽垢是比碳酸鈣垢硬很多的礦物質(zhì)垢，且不易去除。硫酸鹽垢可在阻垢劑/分散劑添加系統(tǒng)出現(xiàn)故障或加硫酸調(diào)節(jié)pH時沉積出來。盡早地檢測硫酸鹽垢對于防止膜層表面沉積的晶體損傷膜元件是極為必要的。硫酸鋇和硫酸鍶垢較難去除，因為它們幾乎在所有的清洗溶液中難以溶解，所以，應加以特別的注意以防止此類結(jié)垢的生成。

　　金屬氧化物/氫氧化物污染：

　　典型的金屬氧化物和金屬氫氧化物污染為鐵、鋅、錳、銅、鋁等。這種垢的形成導因可能是裝置管路、容器(罐/槽)的腐蝕產(chǎn)物，或是空氣中氧化的金屬離子、氯、臭氧、鉀、高錳酸鹽，或是由在預處理過濾系統(tǒng)中使用鐵或鋁助凝劑所致。

　　聚合硅垢：

　　硅凝膠層垢由溶解性硅的過飽和態(tài)及聚合物所致，且非常難以去除。需要注意的是，這種硅的污染不同于硅膠體物的污染。硅膠體物污染可能是由與金屬氫氧化物締合或是與有機物締合而造成的。硅垢的去除很艱難，可采用傳統(tǒng)的化學清洗方法。如果傳統(tǒng)的方法不能解決這種垢的去除問題，請與海德能公司技術部門聯(lián)系?，F(xiàn)有的化學清洗藥劑，如氟化氫銨，已在一些項目上得到了成功的使用，但使用時須考慮此方法的操作危害和對設備的損壞，加以防護措施。

　　膠體污染：

　　膠體是懸浮在水中的無機物或是有機與無機混合物的顆粒，它不會由于自身重力而沉淀。膠體物通常含有以下一個或多個主要組份，如：鐵、鋁、硅、硫或有機物。

　　非溶性的天然有機物污染(NOM)：

　　非溶性天然有機物污染(NOM——Natural Organic Matter)通常是由地表水或深井水中的營養(yǎng)物的分解而導致的。有機污染的化學機理很復雜，主要的有機組份或是腐植酸，或是灰黃霉酸。非溶性NOM被吸附到膜表面可造成RO膜元件的快速污染，一旦吸收作用產(chǎn)生，漸漸地結(jié)成凝膠或塊狀的污染過程就會開始。

　　微生物沉積：

　　有機沉積物是由粘泥、、霉菌等生成的，這種污染物較難去除，尤其是在給水通路被堵塞的情況下。給水通路堵塞會使清潔的進水難以充分均勻的進入膜元件內(nèi)。為抑制這種沉積物的進一步生長，重要的是不僅要清潔和維護RO系統(tǒng)，同時還要清潔預處理、管道及端頭等。